金属薄膜研磨方法

逸 出形成 蒸气 流 ，在基 片表面凝 结成 膜 。生产中根据不同的需要采用各种蚀刻液或蚀刻膏。所以薄膜压力传感器适合于要求稳定性好、可靠性高或温度范围宽等恶劣条件下的压力参数测量。金属薄膜研磨方法 １ ９ 我们 曾制 备 了厚度 为 １． ｍ，Ｒ 、 、Ｒ 分 别 为 、６ 、６ ｎ 为 ３ ８ ８ ｍ 的铀 膜 ，图 １ 此类铀 膜样 品的表 面 １ 铀膜 的制备技术 Ａ Ｍ） Ｓ Ｍ） 和横 断 面 的原 子 力 显微 镜 （Ｆ 、扫 描 电镜 （Ｅ 铀 是极 活泼 的金 属 ，在空气 中会很 快 氧化 ，铀 剐 观察结 果 。Ｃ； ◆使用温度范围：４０℃～＋６０℃、＋８０℃、＋１００℃、＋１２５℃、＋１５０℃； ◆绝缘电阻：在正常工作条件下＞１００Ｍ Ｑ；在＋４０＂Ｃ，９５％－－一９８％ＲＨ湿度环境下，＞２Ｍ Ｑ： ◆过载能力：１．５倍满量程压力； ◆年稳定性：０．２％； ◆工作寿命：＞１０００ｈ； ◆输出阻抗：＜１ｋＱ： ◆功耗电流：＜１５ｍＡ。(三)工程量计算规则镜箱工程量按个计算。

金属薄膜研磨方法化学侵蚀和机械研磨相结合的方法称化学研磨法。一般采用硫酸，因硫酸的酸性强，同时沸点高，不易挥发。 溅射薄膜压力敏感元件的一般结构是：把敏感元件（图３中序号 １）和接管嘴（图３中序号２）组成一个封闭的腔体，压力通过接管 嘴作用到敏感元件上，敏感元件上的四个应变电阻组成惠斯敦电桥， 随着压力的变化，敏感元件的不锈钢弹性体产生应变，从而使应变电 阻产生变化，电桥失去平衡，在激励电压的作用下，传感器输出发生 变化。轧制 化 学 成份 一 般不 发 生 变化 （ 活泼 金属 除 Ｃ）口 、 电沉积【 、电喷【 等 ， 】 倒 １ 但这些方法难以制备高 法 可加 工较 大 面积 的金 属箔 ， 数 １ 厚 ，能获得 尺寸 质 量极 薄铀膜 ，在 环境 的污 染方 面 也难 以达 到控 制 精度和面形精度好、晶体密度高的金属箔 。很多重元素（ 如铀 、钍） 的薄膜 常作为靶或源应 机械研磨／ 抛光是传统的制膜方法 ， 主要用于金 用 于低能物理散射实验ｕ；很多医用放射性同位素 相制样 ，属于“ 去除” 制膜技术范畴。传感器输出的变化与所感受的压力成正比。

其局 限性是难 以控 制厚 度一致 性 。３．溅射薄膜压力敏感元件的主要制造工艺 溅射薄膜压力传感器的主要制作工艺包括膜片的研磨抛光、清洗、成膜、制作光化学图形和表面保护等。权威可靠，假一赔十！【业务咨询QQ: [email protected]电话： 手机：1 】 序号 号 技术名称 本套《金属研磨方法,金属研磨液配方工艺装置技术资料》涵盖从 5到发货当日国内金属研磨方面的全部技术资料；资料含详细的技术工艺、材料配方、加工方法、制作步骤、说明书附图等，国家所有均为电子文档。薄膜式压力传感器是利用薄膜技术在弹性上直接制作薄膜应变电路的一体化敏感元件（及薄膜压力敏感元件），一方面沿用了传统的弹性体粘贴箔式应变计的电测机理，并继承了其原有的一些优点，另一方面采用现代薄膜工艺技术，用陶瓷介质代替了粘贴胶层，克服了由胶层引起的蠕变等一系列的弊端，使其在长期稳定性、耐高温、高输出阻抗等性能指标得到了极大的提高。金属薄膜研磨方法 ３．５制作应变电路图形 制作应变电路图形一般是先用光刻的方法在膜层上形成掩模，然后进行化学腐蚀或干法刻蚀的方法进行 图形加工。６．数字式压力传感器及其应用 溅射薄膜压力传感器具有良好的扩展性，比如可以在其基础上将输出的模拟信号进行脉冲变换，使传感 器输出信号为频率与介质压力成正比的变频脉冲信号。

很 多研 究者 对铀 以及 铀 与其他 元 素 的相互 作 机械 研磨 加工 优点 是 可得 到较 高 的表面 光洁 度 ，甚 ｆ用下 ５ 电子态很感兴趣Ｌ， Ｊ ６ 而此类实验观察离不开 。以及 薄膜沉积过程 中生长速率 和厚 度监 控的常用 方法。金属薄膜研磨方法如反应物不断被清除，则腐蚀作用很均匀，并且得到非常平滑或有光泽的表面。国内外制备金属铀膜的技术有铸造 极 ｂ。如生成的盐类溶解度小，且以结晶状态保留在玻璃表面不易清除，遮盖玻璃表面，阻碍氢氟酸溶液与玻璃接触反应，则玻璃表面受到的侵蚀不均匀，得到粗糙又无光泽的表面。 此法可大面积快速沉积， ｉ ｏ ｉ（ｏｌ ｇｒｌｃｓｎ ） 备 １０ １０ｇ 铀 箔 ，ｃｏ ｎ— ｌ ａｔ ｇ法制 ０－ ５ ｍ 具有 ７ ％ ８ ％ ；改 造价便宜 ，沉积镀料的利用率较高（０ 一 ０ ） 图 ）铀原 料纯度 为 ９．％，均 匀 和 良好 的微 观结构 （ ２。

【解】工程量计算：根据设计图示尺寸以边框围面积计算其工程量计算如下：0.9×1.5m2=1.25m2套用消耗量定额6-112清单工程量计算见表317。金属铀膜与基底 磨料或抛 光粉 间的相 互滑动（ 去 或滚 动） 除表 面余 ３， 界面的相互作用研究【 】对 了解 固态铀和其化合物 量 ，从 而达 到减 薄与 抛光 的效 果 。这种数字化的输出形式抗干扰能力强，适合远距离传 输。金属薄膜研磨方法 Ｅ ）现各 向异 性 ，在 这种 情 况下 进 行状 态方 程 （ＯＳ研 ． １４ 高真 空蒸 发沉 积 究对 实验 结果带 来 的误差 尚不清 楚 ，为获得 所需 结 晶组织 ，往 往要 对铀 膜进行 ８０ ０ ℃退火 处理 ，时 间 真空 蒸发镀 膜是在 真 空下加 热镀 料 ，使其气 化 长 ，产 量低 。 参考文献 ｌ 马良呈．应变电测与传感技术．中国计量出版社，１９９３年１１月２ 马丽杰译．溅射型应变计与压力变换器．１９８９年第３期，第２９～３３页３薛增泉。 传感器的灵敏度一般为１５ｍＶ左右，通常需配差动放大电路对信号进行放大，以满足航天遥测系统标准信号ＯＶ～５Ｖ的幅度要求。

４．溅射薄膜压力传感器的一般结构 溅射薄膜压力传感器的一般结构如图３所示。金属薄膜研磨方法美国 ｏ ａ ｓ国家实验 室 则 用 １０ Ｉ ＡＬ ｓ ｌｍｏ ０ Ｊｍ厚 的轧 制态 ．和铸造态金属贫铀膜进行激光加载冲击波的层裂对 比实验 。保护层和绝缘介质层一般采 用同种材料，目前大部分薄膜压力敏感元件生产厂家使用的材料为Ｓｉ０２。 往须对轧制材料作退火处理 ， 消除或减小形变应力。另 一面 抛 的实验数 据 ， 在 铀膜 质量 是一 个关 键 。３．２膜片的清洗工艺 膜片在成膜前要经过化学试剂超声波清洗和离子轰击清洗两道工艺。

洁净的膜片表面可以获得到良好的薄膜结合力，膜片表面清洗不干净会导致膜层的结合力下降，严重时还会导致膜层脱落。更多资料欢迎登陆 咨询电话： 客服QQ：。金属薄膜研磨方法 我所研制的数字式压力传感器已经能够满足型号使用要求，并已参加过某型号的四次飞行试验， 每次均很好地完成预定任务，表现了良好的精度和可靠性。图２所示为溅射薄膜压力敏感元件的主要流程框图。 为了改善传感器的性能，通常在一般结构的基础上进行优化设 计，如为防止接管嘴在安装时扳手产生的应力传递到敏感元件上，在 接管嘴上设计应力隔离槽（图３中敏感元件下部的细颈）；为改善传 感器的动态相应特性，在引压部设计了迷宫结构，如图３中径向小孔， 图３ 压力传感器的一般结构 使介质压力不直接作用在敏感元件上，而是通过四个小孔传递到敏感 ２００元件上，迷宫小孔起阻尼作用。干法刻蚀图形线条边缘比较整 齐，而且无侧向腐蚀，所以一般都采用离子柬干法刻蚀工艺。