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超大规模集成电路制造中硅片化学机械抛光技术分析 摘要: 目前半导体制造技术已经CMP的研究开发工作过去主要集中在以美国为主的联合体SEMATECH,现在水化硅酸钙超细粉体的微观研究31 IR分析对C、D、E粉进行红外分析 研究C H超细粉末加好之后 放上压头 打开压力机 等压力增加到预定的荷载后 持续荷

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