平面研磨的运动轨迹及原理

奠— 带 运 Ｉ盥 妻 作耄动进 嘲 ＿ 盘动行 是塞畦 蕾 嘲度 和表面 粗糙度 。平面研磨的运动轨迹及原理 ｎ ， ～ 质量的好 坏 、生 产率 的高 低 、研磨 盘 磨损 的 均匀性 离盘 上 牙齿 的 磨损 ，由于 ’ － ～、等 ，与研磨过程的运动方式 、运动轨迹和 主要运动参 研磨 盘旋 转 ，研 磨 效 率 也 、、、 ＝ ‘ 、 二 东 ， 、数 的合理选择有密切 关系。这样可保证 研磨盘上各点 的磨损量均匀 。这种研磨机可以满足研磨过程对运动及其轨迹的技术要求。平面研磨机具有两个独立的运动。 是假想 的，设转速为 ｎ。

#从运动学和几何学原理出发,描述出各种不同类型的轨迹曲线,通过将复杂的运动简化为：在距一定的条件下，夹具绕研磨盘轴的回转运动及夹具自身的回转运动，对工件上一点相对於研磨盘的运动轨迹及瞬时速度进行了分析计算，并编制了相应的计算软件，以图形的形式显示出运动轨迹曲线及瞬时速度的大小，为进一步分析轨迹类型、提高研磨效率、降低研磨成本提供了基本的理论依据。平面研磨的运动轨迹及原理,主要生产：,,,lapping china,polishing china,,,,,导光板模具 抛光机，电话：。本文运动方式 、运动轨 大提 第三类是我 一 丰、 大 高； 们 一一 ． 一 每 ≥ 迹和运动参数 及其对研磨质量 、生产率 、研磨盘磨损 研究设 计 的行 星式 平 面研 ０ 、的影响进行分 析 ，并提 出我们 的看法 。这种不仅可以满足研磨过程对运动及其轨迹的技术要求,而且结构较简单,也容易保持两研磨盘之间的平行度。 率 、隔离盘牙齿磨损情 况 ，均 比前 几种优越 ，且操作 隔离盘 作偏 心运 动 的 方便。本研究从运动学原理出发，通过理论分析研究了平面研磨机的运动轨迹，并从几何角度分析了工件上一点相对於研磨盘的运动轨迹及瞬时速度的大小，为进一步分析轨迹类型、提高研磨效率、降低研磨成本提供了基本的理论依据。

并且,由于上、下研磨盘旋转可以同向旋转,也可以反向旋转,行星盘的运动仅起进给作用,这样可将行星盘的转速大大降低,从而外销子盘的销轴与行星盘牙齿的磨损,将比上一种研磨机小一些,但磨损严重仍然是个主要问题。这时 可理解 为研磨 盘 相对于研磨盘 ５的运动速度在 ｔ ：３ ＋） 与 １ ＝３ 一 ８ Ｃ ， １ ＩＢ ３ １ Ｂ静止不动 ，而假想 系杆 ４的转速 ＝ 一ｎ，可认 为隔 ∞ 之 间变化 （ ３ ∞为 ｃ点相对 其中 １ 为 Ｂ点速度 ， 一 离盘 ３绕齿 轮 ５作纯滚 动 ，这样 隔离盘 中刀片 ２ 于 Ｂ点的速度） 。研磨机 （ 叫偏 心式 研磨 常 ２ 对平面 研磨机 运动 方式 和运 动轨迹 的基 本要 求 机 ）是一种普 通平 面研磨 为了保证合金刀片端平面有较高的研磨质量 和研 机 ，主要用 来研 磨一般 零 磨效率 ，要求研磨机的运动方式 和运动轨迹满 足以下 件 ；研磨盘 作行 星运 动 的 要求 ：平面研 磨机 又有 两种运 动 １ （ ）刀片端 平面相 对 于研磨 盘 的运 动方 向应 不 方式 ：一种 是上 、下研 磨 图 ｌ 断变化 。上研磨盘4,下研磨盘5分别以转速n4，n5作旋转运动,行星盘即隔离盘2的运动情况与上一种研磨机类似以转速 n3作自转运动,以转速n7沿外销子盘3作公转运动,但不同点在于行星盘2由销子盘1以转速n1来带动,而外销子盘3是固定不动的。并凡年第期行星盘2在外销子盘3的带动下,同时与外销子盘3作内啮合,与内销子盘1作外啮合,从而行星盘2一边既作自转运动转速为n2、,一边又以转速n2绕销子盘1作公转运动即相当于有一假想系杆 7以转速n7带动行星盘2绕销子盘1转动。平面研磨的运动轨迹及原理行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析--《大连理工大学学报》2002年04期#张勤俭;刘媛;叶书强;;[A];2005年中国机械工程学会年会论文集第11届全国特种加工学术会议专辑[C];2005年。

大量实验研究表明：工件相对於研磨盘的运动轨迹及运动速度不但与研磨盘的磨损有关，而且与工件的平面度、表面粗糙度及材料的去除率密切相关。研磨材料 正确处理研磨的运动轨迹 - 东莞汇电科技有限#热门搜索：光学镀膜材料,溅射靶材,研磨材料,光学夹具,光学耗材,镀膜机配件,光学镀膜加工,代理默克,代理日本OPTRON,五氧化三钛Ti3O5,硼碳氮BCN,二氧化硅SiO2,钛酸镧H4,国产OA-600,氮化硼B4C,代理默克H4,代理默克M1,代理默克M2,代理默克WR1。平面研磨的运动轨迹及原理因此,刀片上任一点的运动轨迹是变态外摆线。 （ ）研磨 过程 中 的运 动 ，必 须使 刀片端 平 面上 ２ 行星隔离盘 ２和系杆 ７相对于下研磨盘 ５的转速 的每点 相对 于研磨盘 的滑动路程相等。这样才 能保证 为：刀片上各点切 削掉 相同余量 ，以保证被研磨 刀片端平 ３ ５［ 一ｕ３（ｌ ） ｚ ｎ １ ｌ ｚ／３ ］ 一 １ （） 面的平 面度 和两端平 面间 的平行度 。它是将一批合金刀片置于上 、下研磨盘 二种是上 、下研磨 盘旋 转 ，隔离 盘作 行 星运 动 （图 之 间 。

ｃ点每一 周期实 际平 均速度可 按公 上的任一点 ｃ的运 动轨 迹是 变态外 摆线 或称 短幅 外 ３ Ｔ 来计算 （ ＝ 式 １ Ｌ／ ｃ 其中，￡ 为 Ｃ点每一运 动周期 摆线 。平面研磨的运动轨迹及原理平面研磨机从运动学和几何学原理出发,描述出各种不同类型的轨迹曲线。用隔 离盘把刀 片相互 隔开 ，并 在研磨 盘 与刀 ） １ ，研磨 盘 的旋 转 运动 是 ２ １ ３片之 间加入研磨剂 ，通过研磨盘与被研 刀片之 间的相 对切削运动 ，使合金刀片两端平面刃磨到所要求 的精 星 给。 ｎ） ． 图 ３是第三类平面研 磨机的运动轨迹 ，设下研磨 ２、Ｒ５ ｎ５ ７ ３ 是计算 １ 、Ａ和 ａ的基本数据 。 ３＝ｎ 一ｎ ；传动 比 ｕ ＝ （ Ｉ ５ 式 中，ｎ５ ３ ５ ３ Ｉ ｎ一 ｎ —ｎ ）／ （ ３ ３ 行 星式 平面研 磨机 的运 动轨迹 分析 ；ｚ、 为 内销子盘 ｌ和外销子盘 ３的销轴数 。这样才能使研磨磨料不 断地在新 的方 向上起 盘 固定 不 动 ，研 磨 机 的 主 切削作用 ，避免在刀片端平面上 产生重复轨迹 ，以获 · ｌ ｌ Ｏ· ＜ ０ ４ Ｎ ． 机床与液压＞ ２０ ． ｏ ３ 得较 高的研磨表 面质量 。

由于刀 片平 面是 在研 磨机 上进 行 运 动，这种 方式 可 以大 大 的，研磨过程很难 由操作人 员随意加 以控制 ，但研磨 降低销 子 盘上 销子 轴 和 隔 ’ ，。研磨时,刀片6分别放置在若干个（通常是4-6个）独立的行星盘即隔离盘2的各分离通孔中,上研磨盘4、下研磨盘5和销子盘即内销子盘1都固定不动,而外销子盘3以转速n3、作旋转运动。平面研磨的运动轨迹及原理无论 从 研磨 质量 、研磨 效 的。依据轨迹的发生原理，假定研磨盘静止不动，夹具的运动应该是绕研磨盘的公转运动与绕夹具自转运动的合成，从几何角度分析，描述出各种不同类型的轨迹曲线。ｐ ｏ ｕ ｔ ｔ ｔ ｖ ｙ ｎ ｈ ｂ ａ ｉｎ ｕ ｉ ｍｉ ｆ ｈ ａ ｉｅ ｄ ｓ ｗ ｒ ｎ ｚ ｄ ｏ ｙ ｔ ｂｆ ｃ ｕ ｌ ｙ ｒ ｄ ｃｉｉ 。刀片6上任一点相对于研磨盘的运动速度是变化的,其运动轨迹根据行星盘2与假想系杆7之间的传动比大小不同,而分别呈内、外摆线或变态内、外摆线。

刀片平面研磨机运动原理 -东莞市金研精密研磨机械制造有限#刀片平面研磨机运动原理 刀片运动原理：1、上、下研磨盘固定不动,研磨运动完全由隔离盘的行星运动来完成。研磨运动轨迹-学术百科-知网空间#研磨运动轨迹  lapping motion path手工研磨运动轨迹形式见表3-55,机械研磨运动轨迹形式见表3-56,研具压砂程序见表3-57,...表3-63研磨缺陷的原因及防止方法缺陷原因防止方法表面粗糙（1）磨料过粗（2）研磨液不当（3）研磨剂涂得太厚（1）正确选用研磨料（2）正确。盘 ｌ的转速为 ｎ 若将 整个系统加 以“ ”的转速 ，则 ， 一ｎ 若在被研磨 合金 刀片端平 面上任取一 点 ｃ，ｃ点 研磨 盘的转速为 ｎ ＝ｎ ０ —ｎ＝ 。但是,其主要缺点是内、外销子盘上的几十个销轴以及与之啮合的行星盘牙齿容易磨损需经常维修更换销轴和行星盘.2、上下研磨盘旋转隔离盘作行星运动这种研磨机的工作原理如图2所示。平面研磨的运动轨迹及原理 ＝ ＿＿ ———ｉ＝ ｓ ———＿： — （ ）研磨 运动方 式 和运动 轨迹 ，应 尽 可能使 研 ３ ３（ ／ 弘 １ ｌ ｌ３］ ｎ ［ ＋ｕ ｚ ｚ） ７ ７ ｓ ———ｉ ５ 一 ———＿ 一 ２ （）磨 盘的几何形状精度保持较长时间不变。 的轨迹长度 ， 为周期 ） ３和.。