钨研磨机械工艺流程

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项目概况:满足钨化学机械抛光,满足12英寸集成电路生产企业的28nm及以下工艺研发和量产要求,用于【钨化学机械研磨】 资金到位或资金来源落实情况:现招标人资金已到位,摘要:一种减少钨化学机械研磨微刮痕的工艺,提供一半导体基底,其制作钨插塞的主要步骤有光刻胶涂布、光刻,蚀刻,用W CVD方法沉积钨金属,用W CMP工艺磨去表面的钨金属。

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