微晶玻璃磨抛设备

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二氧化铈抛光液化学机械抛光微晶玻璃的机理及优化 201 7年 4月 第2期 第3 7卷 总第 21 8期 金 刚石 与磨 料磨具工程 Diamond(A)玻璃跑偏 跑偏原因: 退火区玻璃两侧温度差异 退火成型设备线未对齐(B在中抛阶段,要求磨料粒度有较好的一致性,否则抛光表面 会产生较深的磨

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陶瓷膜、陶瓷催化剂载体、电光陶瓷、碳化硅陶瓷、微晶玻璃、陶瓷基复合材料13、陶瓷技术设备:分选机械、切割机、抛光机械、备料(研磨、混合设备及3天前  化学机器设备抛光 那两个概念首先出半导体加工过程合用于高精细光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体CMP抛光液操纵"软磨硬"的本理很好的实现

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